Intel a annoncé lundi investir entre 1 et 1,5 milliard de dollars dans la modernisation de son centre de production de Rio Rancho, Nouveau Mexique. L'usine, Fab 11X, disposera des équipements nécessaires à la production de masse, à partir du second semestre 2008, de puces de nouvelle génération gravées en 45 nanomètres (nm). Ce procédé permet d'augmenter la capacité mémoire des puces tout en réduisant leur consommation d'énergie, il est adapté aux terminaux mobiles de nouvelle génération.

« Notre nouveau procédé de gravure en 45 nm représente une des évolutions les plus marquantes dans le domaine de la fabrication industrielle depuis des décennies [...] Notre site de Rio Rancho fonctionne avec succès depuis 27 ans. Fort de ce succès, nous sommes heureux de positionner Fab 11X au coeur de la technologie Intel de nouvelle génération », a déclaré Paul Otellini, CEO du premier fabricant mondial de microprocesseurs, dans un communiqué daté du 26 février 2007. Fab 11X sera la quatrième usine du groupe américain à utiliser la technologie 45 nm (contre 90 nm aujourd'hui).

Fab 11X, « l'anti-fabless » ?